Перечисленное ниже — самостоятельные устройства, которые продаются отдельно на czl.ru. Мы рекомендуем их именно для задач центрифужного нанесения: удержание подложки, подача раствора, УФ-отверждение и температурный контроль.
Создаёт разрежение для фиксации подложки на держателе во время вращения.
Rocker Scientific
Стандартный насос для удержания подложки в большинстве задач — для подложек без агрессивных остатков растворителей. Поставляется в базовой комплектации спин-коатера; также доступен как отдельная позиция (запасной/второй насос).
Rocker Scientific
Альтернатива Rocker 410 для работы с подложками, на которых остаются агрессивные жидкости — PGMEA, хлорбензол, толуол, ДМФА, N-метилпирролидон, кислотные золь-гель прекурсоры. Пары этих сред через центральное отверстие держателя попадают в вакуумную линию, и без PTFE-стойкого насоса вызывают коррозию рабочей мембраны.
Выбирайте по требуемому уровню автоматизации дозирования.
E-Spin Nanotech
Полная автоматизация дозирования раствора фоторезиста или золь-гель прекурсора. Рекомендуется для валидируемых процессов (фарма R&D), серий однотипных подложек, перовскитных протоколов с критичным временем введения антирастворителя.
MICROLIT
Точное ручное / полуавтоматическое дозирование раствора фоторезиста или золь-гель прекурсора. Бюджетная альтернатива микрофлюидному насосу MF-1 — когда полная автоматизация не требуется, а нужна высокая точность объёма и удобство переноса методики между лабораториями.
254 нм — для глубокой полимеризации; 365 нм — для SU-8 и UV-A-композиций.
APEX (Apex Instruments)
Для отверждения фоторезистов и УФ-C-чувствительных композиций с использованием коротковолнового излучения 254 нм — разрыв связей в фотоинициаторах глубокой полимеризации, обработка поверхностей в микроэлектронике.
APEX (Apex Instruments)
Для фотополимеризации SU-8 и большинства промышленных фотополимеров, работающих в УФ-A-диапазоне. Существенно более мощное излучение (49,6 мВт/см² против 6,82 у C1) и большая длина волны 365 нм, безопасная для большинства материалов.
Подключается к H-моделям spinNXG для прецизионного температурного режима. Отдельное устройство, а не опция в строгом смысле.
APEX (Apex Instruments)
Методики с контролем температуры подложки — термочувствительные перовскитные слои, золь-гель плёнки с контролируемой сушкой. Работает в связке с H-моделями spinNXG (P1H, P1AH, P1ACH, P2H).
Насос используется для удержания подложки на вакуумном держателе: через центральное отверстие держателя создаётся разрежение 200–400 мм рт. ст., которое прижимает подложку при вращении до 10 000 об/мин. В базовый комплект входит безмасляный насос Rocker 410 (20 л/мин, 30 мбар).
Chemker 410 (мембранный, проточная часть из PTFE, 18 л/мин, 10 мбар) ставят вместо Rocker 410, когда подложки содержат остатки агрессивных растворителей (PGMEA, хлорбензол, толуол, ДМФА) или кислотных золь-гель прекурсоров: их пары попадают в вакуумную линию через держатель и без PTFE-стойкого насоса вызывают коррозию мембраны.
Да, двумя способами. Микрофлюидный насос Super MF-1 (E-Spin Nanotech) — полная автоматика с расходом 1 нл/с – 2 мл/мин и точностью ±0,1 %, для валидируемых и серийных процессов. Электронная бюретка Microlit E-burette — точная полуавтоматическая дозация, бюджетный вариант для точечной работы. Альтернатива — ручное нанесение пипеткой.
UltraV-C1 излучает 254 нм (UV-C, 6,82 мВт/см², 2 лампы по 8 Вт, ресурс 7 500 ч) — для глубокой полимеризации фоторезистов. UltraV-C1 N излучает 365 нм (UV-A, 49,6 мВт/см², 2 лампы по 70 Вт, ресурс 6 000 ч, с поворотным столиком) — для фотополимеризации SU-8 и большинства промышленных фотополимеров.
Apex TempX-T1S — внешний контроллер температуры для прецизионного температурного режима при работе с моделями spinNXG, оснащёнными нагревом крышки (индекс H). Это отдельный прибор, а не встроенная опция; применяется, когда нужен заданный температурно-временной профиль, например при гелеобразовании золь-гель прекурсоров.
Опишите методику — материал, подложку, требования к автоматизации — подберём центрифугу и сопутствующее оборудование.